工控王國】原子層沉積系統(ALD)設備銷售
原子層沉積系統有兩個製程腔體，分別作為高介電常數介電層薄膜沉積。薄膜沉積為熱反應方式，非電漿增強型原子層沉積(PEALD)。
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機台型號：Aixtron Genus Stratagem 200
晶片尺寸：200mm
八吋晶片載盤可提供 6 吋、4 吋及破片晶片之製程
工控王國集團
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Aixtron Genus Stratagem 200
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产品主要参数： 光源：SMD3014 功率： 18/28/36/45/72W 规格：300*300
FB ID：steven.chuang.5074
